高周波＆HIFUの“ハイブリッドたるみケア”
オリジオキス（Oligio KISS）は、高周波（RF）とHIFUの治療を組み合わせて行える最新型スキンリフティング機器です。
深部に届くモノポーラRF・浅層を均一加熱するマルチポーラRFに加え、真皮深層〜SMAS 層を照射する HIFUモードを1台に統合。X・G・T のトリプルモード切替とリアルタイムインピーダンス測定により、痛みを抑えながら引き締め・リフトアップ・肌質改善を同時に叶えます。
オリジオキスのメカニズム
トリプルモード（X・G・T）シナジー
Xモード
モノポーラ RF（深部 40‑60 ℃） — 皮下脂肪とSMASを立体加熱し即時タイトニング
Gモード
マルチポーラ RF（真皮 38‑45 ℃） — コラーゲン線維を熱収縮→線維芽細胞活性で新生コラーゲン増産
Tモード
マイクロ RF＋フラクショナルパターン — 表皮乳頭層に均一マイクロゾーンを形成し、肌の代謝を再起動
オリジオキスの詳細情報
施術時間
洗顔後～照射 約40分
ダウンタイム
ほぼ無し
腫れ・赤み
腫れはごく軽度
赤みは数時間〜半日
入浴・洗顔
当日からぬるめのシャワーと洗顔が可能
メイク
赤みが落ち着けば当日からOK
飲酒・運動
半日程度控える
